光刻机原理是:在加工芯片的过程当中,光刻机通过各种的光源动能、样子控制的方法,将光束散射到画着路线图的掩模,经物镜补偿各种各样光学误差,将路线图按照等比例缩减后投射到硅片上,然后应用化学法定影,得到再印在硅片上的电路原理图。

光刻机制做芯片的过程,基本和冲印一样。假设拍出来是景色,胶卷上会有曝光印痕,先需要在暗室里定影,让景色在胶卷上显现出来。最后在红光下根据放大机,把胶卷上的景色投射到照相纸上,让照相纸曝光度。再通过照相纸的定影、定影、烘干处理得到最后的照片。除了景色之外,照片冲洗需要有胶卷,有光源、放大机、照相纸。